勻膠機旋涂儀是把膠均勻地涂在基片上的一種機器，主要應(yīng)用于溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作，工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。
 

　　勻膠機旋涂儀的工作流程：
 

　　1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。
 

　　2、勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中重要的因素。基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。
 

　　3、勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉(zhuǎn)的第一階段，光刻膠就開始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。
 

　　4、勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì)，而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況。光刻膠的干燥速度與此相似，也受周圍環(huán)境條件的影響。勻膠的時候，減小基片上面的空氣的流動，以及因空氣流動引起的湍流，或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的。